X線光電子分光分析装置（XPS）

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　試料表面にX線を照射して放出される光電子のエネルギーを測定し、元素および化学状態の定性・定量を行います。
　Arイオンスパッタにより、深さ方向分析も可能です。

　装置外観（アルバック・ファイ社製 PHI GENESIS）

　原理

　試料表面にX線を照射して放出される光電子のエネルギーを測定する。
　結合エネルギーは元素に固有であるため、元素の定性・定量ができる。
　また、化学状態の違いがケミカルシフトとして現れるため、化学状態の分析が可能。

　用途

　・ 最表面の評価
　・ Arイオンスパッタ併用により、深さ方向分析が可能
　・ トランスファーベッセルを活用することで、大気非暴露分析が可能
　・ 絶縁物の測定が可能

装置仕様

　装置名

　X線光電子分光分析装置

　分析径）

　5μm〜200μm

　検出深さ

　数nm

　検出元素

　Li〜U